b*******t
发帖数: 4756 | 1 https://mp.weixin.qq.com/s/4GxXapP8yivNrqQVTBQ5Iw
今天我们聊聊半导体材料。
半导体这个产业，下游到上游，技术难度和壁垒都非常高，可以说没有容易做的东西。
从芯片设计（英特尔，高通），到芯片制造（台积电，三星，英特尔），到芯片设备（
应用材料，lam research，东京电子，ASML），到半导体材料，全部都很困难，后来者
进入必定是充满艰辛。
在之前的文章里面，已经大概讲了芯片设计，制造，封装，设备等，这篇讲讲半导体材
料。
我们要知道，在半导体的产业链里面，设备和材料被认为是上游。
这两个领域美国和日本是占据优势的。
那么市场空间有多大呢？
根据SEMI（国际半导体产业协会）的统计，2017年全球半导体设备销售额为570亿美元
，而全球半导体材料市场销售额为469亿美元，增长了9.6%。
也就是设备 材料=1039亿美元，这比华为一年的销售额要多一点。
整个半导体2017年总的销售额，如果按照Gartner的数据，是4197亿美元，也就是设备
材料占了整个市场的24.76%，也就是差不多25%的水平。
所以好了，我们要知道一个重点，... 阅读全帖 |
|
发帖数: 1 | 2 “最先进光刻机对中国禁售”是一个谎言
中兴被美国封杀十多天了，又有传言华为也在被美国调查。中兴被美国封杀最大的影响
是芯片，在此时机，网络上那个“最先进光刻机对中国禁售”的传言又盛行起来。这里
回顾下半导体制造产业界的一段精彩历史，数几个风流人物，看能不能终结这个捕风捉
影的传言。
光刻机包括很多种类，为避免混淆，先明确一下，本文说的光刻机就是指生产最先进逻
辑芯片所用的那个谣传不卖给中国的设备。这个东西，现在是ASML一家独大。在ASML一
家独大的局面形成之前，是尼康、佳能和ASML三足鼎立。怎么从三足鼎立演变成一家独
大的呢？转折点是193nm波长浸润式光刻机的问世。
本来，光刻机都是干式的，没有液体参与。1987年，当时的IBM还拥有大量芯片Foundry
业务。这里要说明一下，我不喜欢中文夹杂英文单词，但是这个芯片Foundry实在是没
有通用翻译，直译成工厂又觉得很不确切，所以只好夹杂英文单词了。1987年，张忠谋
创立了台积电，这是改变产业界的大事。在同一年，一位不太起眼的IBM芯片Foundry工
程师从显微镜镜头上的水得到灵感，提出了一种浸润式光刻机的新设想，写成论文... 阅读全帖 |
|
发帖数: 1 | 3 中兴被美国封杀十多天了，又有传言华为也在被美国调查。中兴被美国封杀最大的影响
是芯片，在此时机，网络上那个“最先进光刻机对中国禁售”的传言又盛行起来。这里
回顾下半导体制造产业界的一段精彩历史，数几个风流人物，看能不能终结这个捕风捉
影的传言。
光刻机包括很多种类，为避免混淆，先明确一下，本文说的光刻机就是指生产最先进逻
辑芯片所用的那个谣传不卖给中国的设备。这个东西，现在是ASML一家独大。在ASML一
家独大的局面形成之前，是尼康、佳能和ASML三足鼎立。怎么从三足鼎立演变成一家独
大的呢？转折点是193nm波长浸润式光刻机的问世。
本来，光刻机都是干式的，没有液体参与。1987年，当时的IBM还拥有大量芯片Foundry
业务。这里要说明一下，我不喜欢中文夹杂英文单词，但是这个芯片Foundry实在是没
有通用翻译，直译成工厂又觉得很不确切，所以只好夹杂英文单词了。1987年，张忠谋
创立了台积电，这是改变产业界的大事。在同一年，一位不太起眼的IBM芯片Foundry工
程师从显微镜镜头上的水得到灵感，提出了一种浸润式光刻机的新设想，写成论文发表
出来。在当时，这篇论文纯粹作为理... 阅读全帖 |
|
s*****e
发帖数: 16824 | 4 不是一个东西。简单的说现在的10nm使用193nm的深紫外光做出来的，人家那个14nm是
紫外光的波长，比193nm高一个数量级。 |
|
t******t
发帖数: 15246 | 5 “高NA浸没式曝光光学系统关键技术研究”、“极高精度光学元件与系统检测技术研究
”及“极紫外投影光刻关键技术研究”等项目，是国家下达的重大的科技专项任务（第
一期经费10亿元），其最终目标是掌握超大规模集成电路制造产业核心装备--DUV及EUV
投影光刻机曝光光学系统的研制与生产能力。
DUV及EUV投影光刻曝光光学系统是目前人类所能研制的最为复杂、最为精密的光学
仪器，其研制过程涉及到光学材料、光学设计、光学加工、光学检测、光学镀膜、光机
结构与光学装校等应用光学所有单元技术，且需将上述单元技术发挥到当前发展的极限
水平。
竭诚欢迎2009年优秀应届毕业生加入上述科研项目的研究团队，肩负历史使命，共
同迎接与完成国家与民族交付的这一极具挑战性的研究任务！ 有志从事最尖端应用光
学研究的年青朋友们，来应用光学国家重点实验室重大专项锻炼与发展，将是实现你们
人生价值的最佳选择！
志存高远，心细如丝
——勇攀精密工程光学领域新高峰
长春光机所 李晶
拉面想必大家都吃过，但知道最细的拉面有多细么？创造吉尼斯记录之最细的拉面，可
以三十根同时穿过针眼。米上刻字，大家也都熟悉，在... 阅读全帖 |
|
a***e
发帖数: 27968 | 6 193nm+水+相衬，可以到65~45nm的分辨能力，
几百nm是你学校里用的15年前的老古董不要拿出来丢人
32nm和22nm都是double patterning出来的
设备关系不大？ASML的机器可以在50cm/s的运动速度
下达到1nm以下的定位精度和稳像,每小时曝光10K量级的die
tsmc,3*,intel花1台/30M刀的价位你当他们傻？
1小时ebeam不知道能不能写完一个die |
|
S*********4
发帖数: 5125 | 7 中国科技超过日本（2） 核电
(2014-09-28 08:36:30) 下一个
中国核电技术先进
一。第三代AP1000核电站
AP1000是美国西屋公司设计的。日本东芝买下西屋，然后把AP1000设计卖给中国。
2006年11月，中国引进美国西屋公司的第三代核电技术AP1000。在合作备忘录中，
西屋承诺分阶段向中方转让全部技术资料，并同意中方在将单机功率升级至1350兆瓦以
上后拥有全部知识产权，技术出口也不受西屋限制。
中国正在建四台AP1000机组，两台在浙江三门，两台在山东海阳。计划2016年投产
。这四套机组平均国产化水平为55%，尤其是反应堆压力容器、蒸汽发生器、大型锻件
、主泵、阀门采用国产设备。从第五套设备开始可以基本实现国产化。
中国已经完成1400兆瓦功率的CAP1400的设计，拥有全部知识产权，国产化率将达
到80%，非国产化的部分都是没有垄断威胁的部件。中国已经开始在山东威海市荣成石
岛湾开工建设CAP1400的示范工程。
其他国家AP1000情况：
美国4台第三代核电站于2013年3月在乔治州伯克县和南卡州詹金斯威尔开工。
保加利亚和英国正在计划建AP10... 阅读全帖 |
|
t**s
发帖数: 483 | 8 请问用193nm波长的光如何去曝光一个20nm宽的图形。
你答得出来光刻机就没什么难度。 |
|
|
|
h******k
发帖数: 15372 | 10 记我国无机非线性光学晶体的发展历程
材料是人类社会生产力发展程度的重要标志。我们用“旧石器时代”、“新石器时
代”、“铁器时代”等等来划分不同生产力发展阶段的历史时期。人工晶体也能起到划
分时代的作用：水晶及其压电元件的研制成功，将人类带入无线电通讯的新时代;单晶
硅及其集成电路的普及，标志着电子时代的到来;红宝石及其激光器的研制成功，预示
着人类进入光电子时代。
水晶、单晶硅、红宝石都是人工晶体材料，这些人工晶体材料都已经产业化，在全
世界大量生产。当然，这三种材料也只分别是压电材料、半导体材料、激光材料的代表
。随着科技的不断发展，各领域的新材料不断涌现。例如激光材料，继首次实现激光输
出的红宝石之后，又出现了激光性能更好的钇铝石榴石、钆镓石榴石、钒酸钇等激光晶
体。但是，尽管新型激光晶体不断被研制出来，所输出的激光波长并没有覆盖从紫外到
红外的整个光谱范围，而是多半集中在1064nm附近，这就大大制约了激光的应用。于是
人们进一步研究、寻找具有改变激光频率特性的材料——非线性光学晶体，利用这类晶
体进行倍频、和频、参量震荡等光学变换来获得从紫外到红外的激光输出。
上世纪七... 阅读全帖 |
|
j****c
发帖数: 19908 | 11 EUV光刻机禁运而已，193纳米的浸入式光刻机不禁运，现在14nm制程还是用的193nm光
刻机 |
|
K******r
发帖数: 4052 | 12 单次成像22nm首次
封锁的光刻机用193nm单次成像达不到这个水平
棒子在搞14nm制成
搞到10nm工业化了就牛逼大发了
★ 发自iPhone App: ChineseWeb 13 |
|
D*****i
发帖数: 8922 | 13 技术路径不一样，荷兰人虽然波长短，但不能直接用天朝的这个技术。
天朝这个是用光去激发等离子体，让离子体去曝光。
荷兰人是用193nm光，加上硅片浸泡在水里，让波长变更短。如果荷兰人去激发等离子
体，那浸泡法就不能用了，否则水先变成蒸汽了。 |
|
d*****i
发帖数: 3905 | 14 90 65 22 14 10这些都是node的名字，这几年node就是个纯商业名称，那个数字基本没
有实际意义。
光刻机关键是看单次曝光能做到的最小size。搞multi patterning啥的不算数，台积电
的10用的还是193nm浸入式，7应该也是。
这个新闻说能做22nm,其实对应的最小feature其实应该在40+，根现有193没啥进步。 |
|
发帖数: 1 | 15 為了2017年量產7nm工藝，三星首次引入了EUV光刻機
三星、TSMC發力新一代工藝，不僅10nm工藝量產時間超過Intel，下下代的7nm節點上也
在摩拳擦掌，這兩家爭著在明年搶先量產，而三星更是第一家引入量產型EUV光刻機，
後者是製造7nm及5nm處理器的關鍵設備。
由於半導體工藝越來越複雜，Intel的「Tick-Tock」鐘擺戰略已經放緩，從2年升級一
次工藝變成了3年一次，10nm工藝已經延後到了2017年下半年。Intel腳步放慢，三星、
TSMC可算是得到超越的機會了，原本跟在Intel後面的它們發力新一代工藝，不僅10nm
工藝量產時間超過Intel，下下代的7nm節點上也在摩拳擦掌，這兩家爭著在明年搶先量
產，而三星更是第一家引入量產型EUV光刻機，後者是製造7nm及5nm處理器的關鍵設備。
先進半導體製造工藝越來越困難，原有的技術手段已經不適用，製造10nm以下的電晶體
需要極其複雜的工藝和設備，ASML的EUV光刻機就是其中的關鍵，EUV代表極紫外光，波
長193nm 13nm（波長越短，光刻解析度越高，電晶體就越小），可用於製造10nm及以下
工藝的晶片，但... 阅读全帖 |
|
x****y
发帖数: 1853 | 16 同意。逻辑市场投入大收效少。让Intel和Samsung折腾去。中国能搞好来193nm的
Immersion光刻，再加上etching, 就能把memory这块吃掉。吃掉memory以后再攻逻辑也
不晚。 |
|
发帖数: 1 | 17 ASML光刻机欠火候：三星/台积电/GF 7nm EUV异常难产
不久前，高通宣布未来集成5G基带的骁龙芯片将基于三星的7nm制造，具体来说是7nm
LPP，使用EUV（极紫外）技术。
紧接着，三星就在华诚破土动工了一座新的7nm EUV工艺制造工厂，2020年之前要投产。
看似风风火火，但其实7nm EUV依然面临着不少技术难题。
据EETimes披露，在最近的芯片制造商会议上，有厂商就做了犀利地说明。
比如，GlobalFoundries研究副总裁George Gomba就表示，唯一有能力做250瓦EUV光刻
机的ASML（阿斯麦）提供的现款产品NXE-3400仍不能满足标准，他们建议供应商好好检
查EUV光罩系统，以及改进光刻胶。
这里对光刻做一下简单科普。
光刻就是将构成芯片的图案蚀刻到硅晶圆上过程。晶圆上涂有称为光刻胶的光敏材料，
然后将该晶圆暴露在通过掩模照射的明亮光线下。掩模掩盖的区域将保留其光刻胶层，
而直接暴露于紫外线的那些会脱落。
接着使用等离子体或酸蚀刻晶片（浸式）。在蚀刻过程中，被光刻胶中覆盖的晶片部分
得到保护，可保留氧化硅; 其他被蚀刻掉。
显然，光线波长小... 阅读全帖 |
|
b****a
发帖数: 4465 | 18 中芯国际以1.2亿美元从荷兰ASML进口的EUV极紫外光刻机运抵武汉天河机场，相关入境
手续办理完毕后，即可运至长江存储的工厂。
该机是193nm沉浸式设计，可生产20-14nm工艺的3DNAND闪存晶圆。 |
|
y**h
发帖数: 3093 | 19 麻痹原来之前连光刻机也没有就这个量产那个量产了
中芯国际花了1.2亿美元从荷兰ASML买来一台EUV极紫外光刻机，未来可用于生产7nm工
艺芯片，而根据最新消息，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，国产SSD固态硬盘
再次取得重大突破。
据悉，这台光刻机同样来自荷兰ASML(人家把持着全球90％的光刻机市场)，193nm沉浸
式设计，可生产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆，售价达7200万美元，约合人民币4.6
亿元。 |
|
c*******a
发帖数: 1879 | 20 【 以下文字转载自 Stock 讨论区 】
发信人: drugbull (药牛), 信区: Stock
标 题: 买买买不差钱，4亿6千万! 长江存储迎来首台光刻机!
发信站: BBS 未名空间站 (Sat May 19 22:16:32 2018, 美东)
【 以下文字转载自 BetterStock 俱乐部 】
发信人: drugbull (药牛), 信区: BetterStock
标 题: 460,000,000元! 长江存储迎来首台光刻机!
发信站: BBS 未名空间站 (Sat May 19 22:13:54 2018, 美东)
中芯国际花了120,000,000美元从荷兰ASML买来一台EUV极紫外光刻机，未来可用于出产
7nm工艺芯片，而依据最新消息，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，国产SSD固态
硬盘再次获得重大突破。
目前，设备已抵达武汉天河机场，办理完毕相关入境手续后，便会运到长江存储工厂。
据悉，这台光刻机也是来自荷兰ASML(操纵着全球90％的光刻机市场)，193nm沉浸式规
划，可出产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆，售价达7200万美元，约合... 阅读全帖 |
|
s******t
发帖数: 1956 | 21 ASML的人和我说的，他们一直想扩大对华业务。
不过，芯片制作不经是光刻机的事。比如，量产的65nm以下制程的芯片，都是用的ASML
193nm浸润式光刻机。台积电能做到7nm，三星能做到10nm，中芯国际目前只能做到
28nm。 |
|
f***y
发帖数: 4447 | 22 http://laoyaoba.com/ss6/html/14/n-681214.html
原标题：实现闪存行业划时代跃进！长江存储将首次公布新型3D NAND架构Xtacking
集微网消息，近日长江存储官方透露，将于8月份在美国首次公布新型3D NAND架构
Xtacking，据称该技术可将NAND传输速率提升至DRAM DDR4相当的水准，同时使存储密
度达到行业领先水平，实现闪存行业的划时代跃进。
据长江存储介绍，Xtacking技术将为NAND闪存带来前所未有的超高传输速率，从而将
NAND闪存应用产品，如UFS、消费级及企业级SSD的性能提升至全新的高度。在客户、行
业伙伴以及标准机构的合力帮助下，Xtacking将为高性能的智能手机、个人计算、数据
中心和企业应用展开新篇章。
Xtacking技术实现了NAND矩阵与外围电路的并行加工。这种模块化闪存开发和制造工艺
将大幅缩短新一代3D NAND闪存的上市时间，并使NAND闪存产品定制化成为可能。
该公司表示，长江存储CEO杨士宁博士将于8月份在美国举行的闪存峰会（FMS）上首次
公布Xtacking技术。不过未透露该技术... 阅读全帖 |
|
t******e
发帖数: 2504 | 23 “这台光刻机为ASML的193nm浸润式光刻机，售价7200万美元，用于14nm~20nm工艺”.
不愧是宣传高手，对于自己的工作，厂房盖好都要锣鼓喧天，对于进口的机器，这款
1980Di, 人家ASML自己说是用作10nm node, NM, 长江存储说成是14-20nm, 这时，就
不吹了，要把手头的大炮，说成小米加步枪了，哈！ |
|
发帖数: 1 | 24 一文了解长江存储、合肥长鑫、福建晋华的最新进展
集微网消息 （记者/茅茅、小北），从2017年以来，DRAM价格一路高歌猛进，三星、海
力士和美光在这一轮的行情中获得了丰厚的利润。这一市场异变得到了中国反垄断机构
的关注，据集微网了解，5月31日，中国反垄断机构分别对美光、三星、海力士三家公
司位于北京、上海、深圳的办公室展开“突袭调查”和现场取证，标志着中国反垄断机
构正式对三家企业展开立案调查。
据集邦咨询的数据，2018年第一季三星、海力士、美光在DRAM产业的市占率合计共占95
.4%的市场份额，而中国存储厂商在该市场的份额依然为零。目前，我国存储领域已形
成包括发展NAND Flash的长江存储，专注移动式内存的合肥长鑫以及致力于利基型内存
的福建晋华三大阵营。值得注意的是，今年将是中国存储产业发展的关键节点，那么三
家厂商目前的进度如何？
福建晋华
福建省晋华集成电路有限公司(简称晋华集成电路，JHICC)是由福建省电子信息集团、
及泉州、晋江两级政府共同出资设立，被纳入我国“十三五”集成电路重大生产力布局
规划。
晋华集成电路与台湾联华电子开展技术合作，专注于随机存取存储... 阅读全帖 |
|
q****5
发帖数: 1660 | 25 难怪荷兰卖给我们ASML光刻机，晚了这几个亿就没了
他的是波长为193nm的深紫外光，采用沉浸式设计，可生产20-14nm工艺的 |
|
l**p
发帖数: 6080 | 26 365nm实现的超分辨？
比不过193nm实现的超分辨
22nm挺落后了吧 |
|
发帖数: 1 | 27 【 以下文字转载自 BetterStock 俱乐部 】
发信人: drugbull (药牛), 信区: BetterStock
标 题: 460,000,000元! 长江存储迎来首台光刻机!
发信站: BBS 未名空间站 (Sat May 19 22:13:54 2018, 美东)
中芯国际花了120,000,000美元从荷兰ASML买来一台EUV极紫外光刻机，未来可用于出产
7nm工艺芯片，而依据最新消息，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，国产SSD固态
硬盘再次获得重大突破。
目前，设备已抵达武汉天河机场，办理完毕相关入境手续后，便会运到长江存储工厂。
据悉，这台光刻机也是来自荷兰ASML(操纵着全球90％的光刻机市场)，193nm沉浸式规
划，可出产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆，售价达7200万美元，约合人民币4.6亿元。
后续，长江存储还会引进更多光刻机。
2016年末，国家存储器基地项目(一期)一号出产和动力厂房在武汉正式开工建造，2017
年9月底提早封顶，2018年4月5日首批价值40000000美元的精密仪器出场安装。
同时，长江存储还在推动64层堆叠... 阅读全帖 |
|
l*****o
发帖数: 19653 | 28 resolution从来都不是仅仅由镜头决定的！
镜头只决定diffraction limit和aberrations，也就是成像的过程。而在image plane
所成的像，必须也只能由detector转化为电信号（无论是ccd还是cmos还是化学反应）
。。。
当这些detector的数量比较小的时候，resolution就是由detector的数量决定；当这些
detector的数量达到一定数目，使其间距等于或者小于optics所能成像的最小尺寸时（
针对objective plane上的一个点！），那么resolution就完全由镜头和aberrations决
定。。。
这类似于lithography里面光学系统和photoresist之间的关系：一定的波长，一定的NA
就会需要一定的resist performance，否则，你用193nm去曝光i-line photoresist，
就一定很悲剧。。。
我虽然没有专门做过FSO，但是好歹也整过几个DOE器件，对什么决定resolution还是知
道的。。。 |
|
b*s
发帖数: 82482 | 29 这不就是用imager匹配光学系统的分辨率么？只要imager的空间频率能够匹配光学系统
的成像就行了啊，过高的空间频率是empty放大。
光电转换的过程本身，对于分辨率没有任何影响，有影响的是空间频率，就是焦平面上
的像素大小本身……
resolution从来都不是仅仅由镜头决定的！
镜头只决定diffraction limit和aberrations，也就是成像的过程。而在image plane
所成的像，必须也只能由detector转化为电信号（无论是ccd还是cmos还是化学反应）
。。。
当这些detector的数量比较小的时候，resolution就是由detector的数量决定；当这些
detector的数量达到一定数目，使其间距等于或者小于optics所能成像的最小尺寸时（
针对objective plane上的一个点！），那么resolution就完全由镜头和aberrations决
定。。。
这类似于lithography里面光学系统和photoresist之间的关系：一定的波长，一定的NA
就会需要一定的resist performance，否则，你用193nm... 阅读全帖 |
|
b********s
发帖数: 1508 | 30 成都电视台《成视新闻》栏目组来到中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室，
对实验室打造“大国重器”，同时带动产业、惠及民生等科技创新驱动发展情况进行详
细报道。
光电所微细加工光学技术国家重点实验室研制出来的SP光刻机是世界上第一台单次
成像达到22纳米的光刻机，结合多重曝光技术，可以用于制备10纳米以下的信息器件。
这不仅是世界上光学光刻的一次重大变革，也将加快推进工业4.0，实现中国制造2025
的美好愿景。
长期以来，我国的光刻技术落后于先进国家，成为我国工业现代化进程的一块短板
。2006年，科技部提出了光刻技术的中长期规划，希望中科院的国家重点实验室，能找
到一条绕开国外技术壁垒，具有自主知识产权的光刻路径。光电所SP光学光刻机就是绕
开了传统的193纳米曝光的技术路线，利用长波长光源也可以得到一个突破衍射极限的
分辨率的图形，所以在成本上安全性方面上都会有一个很大的提升，是完全具有知识产
权的原创性技术。
我以前了解过，光刻机是制造电脑CPU的母机，处于科技领域的最顶层，目前世界
上先进光刻机基本被荷兰的ASML公司垄断，CPU芯片制程最先进的是14纳米，不卖中国
人，... 阅读全帖 |
|
|
N******o
发帖数: 77 | 32 if the required dose is 30mJ, I give it 3000mJ? |
|
|
s*****3
发帖数: 1673 | 34 看你的PR有多厚? 除了2楼说的，有时候如果一下子太strong的dose，表面可能会被
hard burn. |
|
N******o
发帖数: 77 | 35
多谢楼上。
在调试，第一次dose用太大了。先降到正常dose附近吧。
我觉得我dose太高，接近hard bake. 高温 cross-linking 发生后会怎么样我还在查资
料。 |
|
d***a
发帖数: 128 | 36 Each phororesist has their own application range for laser. The third floor
is right. It depend on your set-up, laser source, even has the photoresist
as 248, 193nm laser, commerical avaible |
|
dn
发帖数: 43 | 37 45nm with DUV 193nm source
Otherwise use EBL, or nano-imprinting |
|
N******o
发帖数: 77 | 38 if the required dose is 30mJ, I give it 3000mJ? |
|
