d*******2 发帖数: 340 | 1 用尼康i12投影光刻,刻蚀出来的沟槽宽度比预期的窄,请问一般是什么原因?曝光显
影不足吗?先谢了! |
s*****3 发帖数: 1673 | 2 positive tone or negative tone photoresist ?
A lot of parameters can affect the CD. Dose, focus offset, develop etc...
【在 d*******2 的大作中提到】![](/moin_static193/solenoid/img/up.png) : 用尼康i12投影光刻,刻蚀出来的沟槽宽度比预期的窄,请问一般是什么原因?曝光显 : 影不足吗?先谢了!
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a*******n 发帖数: 10 | 3 chemistry不合适,pressure太大,PR太厚,PR reflow。
暂时只能想到这几个原因 |
b********d 发帖数: 720 | 4 有很多可能的因素,PR pattern, etching process
你可以在做好PR pattern, etch之前先characterize一下你的PR pattern,看看和你的
预期值一样不
如果一样,再考虑etching process,比如是不是etching时间不够等
【在 d*******2 的大作中提到】![](/moin_static193/solenoid/img/up.png) : 用尼康i12投影光刻,刻蚀出来的沟槽宽度比预期的窄,请问一般是什么原因?曝光显 : 影不足吗?先谢了!
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r******t 发帖数: 8967 | 5 曝光显影不足还是最常见的。加长曝光时间?调整Developer的浓度和温度?
【在 d*******2 的大作中提到】![](/moin_static193/solenoid/img/up.png) : 用尼康i12投影光刻,刻蚀出来的沟槽宽度比预期的窄,请问一般是什么原因?曝光显 : 影不足吗?先谢了!
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