推荐审稿（Microelectronic Engineering） - Immigration版

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Immigration版 - 推荐审稿（Microelectronic Engineering）

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s*****6
发帖数: 2379

Journal: Microelectronic Engineering
Keywords: solid state reaction， Characterization of Ultra-Thin Nickel-
Silicide Films，Resistivity, Thermal Stability, Contact Resistance
感兴趣的话请将你的联系方式，姓名，title，专业等发给我。

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