Y****I
发帖数: 309 | |
x****u
发帖数: 44466 | 2 得找个懂你这个专业的人翻译。
【在 Y****I 的大作中提到】
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t***s
发帖数: 1247 | 3 头大了
【在 Y****I 的大作中提到】
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bz
发帖数: 1770 | 4 这个只要稍微学一下那些假名能发出相应的专业用语的音就容易了，剩下的都是当用汉
字加一些简单的猜测就OK。
【在 Y****I 的大作中提到】
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R****i
发帖数: 2387 | 5 是个烧陶瓷的工艺，那个90%重量比的InO和10%重量比的ZnO，混合，
然后那个工艺我看不懂，可能是湿法球磨？
最后压片烧结。
回帖的时候看不见照片了，你对付这看吧。
【在 Y****I 的大作中提到】
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i***a
发帖数: 11095 | 6 比表面积为9m2/g的氧化indium粉末和比表面积为12m2/g的氧化亚铅粉末按重量比90比
10混合，用湿式珠子磨粉机混合粉碎。用1mm直径的氧化锆zirconia颗粒作为触媒介体
。混合粉碎后，用吹风机spray dryer干燥得到微粉末，填充到金属模型中，然后用冷
压机cold press或者冷间等方压机1t/cm2的压力压成型。将得到的成型物装入烧成炉，
氧气的浓度为25%的环境中1350度烧4小时到烧结。得到的izo sputtering target用烧
结体，无论是否用假烧工程，也会变成6.92g/cm3的高密度的烧结体。 |
i***a
发帖数: 11095 | |
R****i
发帖数: 2387 | 8 是讲做IZO溅射靶材的。
假烧工程应该是指预烧结。
【在 i***a 的大作中提到】
: 比表面积为9m2/g的氧化indium粉末和比表面积为12m2/g的氧化亚铅粉末按重量比90比
: 10混合，用湿式珠子磨粉机混合粉碎。用1mm直径的氧化锆zirconia颗粒作为触媒介体
: 。混合粉碎后，用吹风机spray dryer干燥得到微粉末，填充到金属模型中，然后用冷
: 压机cold press或者冷间等方压机1t/cm2的压力压成型。将得到的成型物装入烧成炉，
: 氧气的浓度为25%的环境中1350度烧4小时到烧结。得到的izo sputtering target用烧
: 结体，无论是否用假烧工程，也会变成6.92g/cm3的高密度的烧结体。
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x****u
发帖数: 44466 | 9 赞专业。
【在 i***a 的大作中提到】
: 比表面积为9m2/g的氧化indium粉末和比表面积为12m2/g的氧化亚铅粉末按重量比90比
: 10混合，用湿式珠子磨粉机混合粉碎。用1mm直径的氧化锆zirconia颗粒作为触媒介体
: 。混合粉碎后，用吹风机spray dryer干燥得到微粉末，填充到金属模型中，然后用冷
: 压机cold press或者冷间等方压机1t/cm2的压力压成型。将得到的成型物装入烧成炉，
: 氧气的浓度为25%的环境中1350度烧4小时到烧结。得到的izo sputtering target用烧
: 结体，无论是否用假烧工程，也会变成6.92g/cm3的高密度的烧结体。
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L**********A
发帖数: 7115 | 10 版主这么辛苦翻译是不是给点珠宝？
【在 i***a 的大作中提到】
: 制造珠宝的？
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y****6
发帖数: 4193 | 11 楼上太逗乐，哈哈哈哈
我也懂日文，不过这个真的爱莫能助 |
y****6
发帖数: 4193 | 12 这个太葱白了
【在 i***a 的大作中提到】
: 比表面积为9m2/g的氧化indium粉末和比表面积为12m2/g的氧化亚铅粉末按重量比90比
: 10混合，用湿式珠子磨粉机混合粉碎。用1mm直径的氧化锆zirconia颗粒作为触媒介体
: 。混合粉碎后，用吹风机spray dryer干燥得到微粉末，填充到金属模型中，然后用冷
: 压机cold press或者冷间等方压机1t/cm2的压力压成型。将得到的成型物装入烧成炉，
: 氧气的浓度为25%的环境中1350度烧4小时到烧结。得到的izo sputtering target用烧
: 结体，无论是否用假烧工程，也会变成6.92g/cm3的高密度的烧结体。
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Y****I
发帖数: 309 | 13 xiexie
接包子：）
【在 i***a 的大作中提到】
: 比表面积为9m2/g的氧化indium粉末和比表面积为12m2/g的氧化亚铅粉末按重量比90比
: 10混合，用湿式珠子磨粉机混合粉碎。用1mm直径的氧化锆zirconia颗粒作为触媒介体
: 。混合粉碎后，用吹风机spray dryer干燥得到微粉末，填充到金属模型中，然后用冷
: 压机cold press或者冷间等方压机1t/cm2的压力压成型。将得到的成型物装入烧成炉，
: 氧气的浓度为25%的环境中1350度烧4小时到烧结。得到的izo sputtering target用烧
: 结体，无论是否用假烧工程，也会变成6.92g/cm3的高密度的烧结体。
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