H********g
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发信人: foofy (不才), 信区: Military
标 题: 0.1nm！央视：国内首台光镜镀膜设备投用，光刻机的最后一块拼图
发信站: BBS 未名空间站 (Tue Jul 6 12:45:15 2021, 美东)
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0.1nm！央视：国内首台光镜镀膜设备投用，光刻机的最后一块拼图
柏柏说科技i2021-07-05 15:26:34
根据零部件效力程度划分，EUV光刻机共分三个核心部件：双工件台、EUV光源、EUV光
学镜头。目前我国已经成功攻坚适用于EUV光刻机设备的EUV光源、双工件台系统。EUV
光学镜头成为我国实现高端芯片制程的最后一块拼图。
我是柏柏说科技，资深半导体科技爱好者。本期为大家带来的是：0.1纳米以下，中科
科美正式投用的直线式劳埃透镜镀膜装置、纳米聚焦镜镀膜装置。国内首台高能光源设
备步入安装阶段。
老规矩，开门见山。据“央视新闻联播”报道，由国家发改委立项支持、中科院高能物
理研究院承建，国内首台高能同步辐射光源科研设备于2021年6月28日上午安装。与此
同时，负责为这台光源设备提供技术研发与测试支撑能力的先进光源技术研发与测试平
台启动试运行。
此外，中科科仪旗下的中科科美也传来佳讯，其研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米
聚焦镜镀膜装置于2021年6月28日正式投入使用。央视新闻联播对此也做出报道。
中科院高能物理研究院与中科科仪取得的进展、成就，将给我国的半导体行业带来怎样
的变化呢？首先我们得了解“高能同步辐射光源”、“直线式劳埃透镜镀膜装置以及纳
米聚焦镜镀膜装置”的作用以及主要应用范围。
首先是中科科仪推出的镜镀膜装置。据了解，镜镀膜装置可满足大多数物理镜头对膜层
制备的工艺需求。诸如聚焦镜、单色镜、劳埃镜、纳米聚焦镜以及用于EUV光刻机当中
的光镜头。
在这里补充一下光学镀膜的作用。从广义来讲，光学镀膜指代在光学零件上镀上一层或
多层介质薄膜的工艺过程。好的镀膜工艺可以提高或降低光学零件对光的反射、分束、
分色、滤光以及偏振等要求。中科科仪正式推出投用的设备是制程难度最高、应用范围
最广的真空镀膜。
让我们将重点放在EUV光刻镜头上。由于EUV光刻镜头是面向更高制程、更多数量的硅基
晶体管芯片，EUV光刻机对镜头镜面光洁度的要求极高，即镜面光洁度不得超过50皮米
。什么概念呢？将整个云南省推平，平面高度不得超过5厘米。目前唯一能够生产EUV光
刻机镜头的只有德国的蔡司，但蔡司能够达到制备EUV光刻镜头的工程师也只有20余人。
前面提到，光学镀膜可以在一定程度上提高光学零件对光的有效作用力。中科科仪投用
的真空镀膜设备能够将膜厚精度控制在0.1纳米（100皮米）以内，实现高精度纳米量级
万层镀膜工艺。且令人振奋的是，中科科仪推出的镀膜设备，从关键零部件生产到整套
设备系统的运行机制，所包含的技术都掌握在自己手中的，是实打实的国产货。
中科科仪推出的镀膜装备，适用于光刻机镜头的制备，一定程度上能够降低国产设备厂
商在光刻镜头项目中面临的压力，加速国产半导体厂商在光刻镜头项目中的进展。中科
科仪的镀膜设备能够实现对光学零件0.1纳米（100皮米）的万层镀膜需要，可以提高我
国光刻镜头的水准，助力我国实现先进制程芯片自主化生产的目标。
结合中科院高能物理研究院正在安装的高能同步辐射光源，可谓是双管齐下。据了解，
截至2021年6月底，中科院高能物理研究院正在进行的“高能同步辐射光源安装项目”
已经完成了70%。与之相匹配的设备单位，预计将在2022年初完成设备的全部交付使用。
值得一提的是：高能同步辐射光源是全球亮度最高的第四代同步辐射光源之一，可满足
大多数航天以及半导体行业对于光源制程的需求，其中包括芯片制程。高强度的光源可
以在一定程度上降低高端芯片对于光刻机设备的制程难度，为我国高端芯片制程的发展
提供重要设备保障。
与中科科仪推出的镜镀膜设备一样，我国的这台高能同步辐射光源设备，具备全国产技
术、自主设计、国内加工的特点。中科院与中科科仪在半导体光源领域中取得的成就，
弥补了我国在高端光学设备领域中的空白。为我国在基础科学、工程科学等领域实现原
创性、突破性创新研究的目标，提供了重要支撑平台。
伴随国家对半导体行业的重视，国产厂商在半导体领域中实现了许多从无到有的突破。
照此趋势下去，相信我们距离实现先进制程芯片自主化生产的目标已经不远了。祝愿国
产半导体厂商能够愈发强大，早日解决半导体核心技术卡脖子的问题，在半导体领域中
所向披靡。
对于我国首台高能光源设备步入安装阶段，大伙有什么想说的呢？结合中科科美与高能
物理研究院在半导体领域中取得的相关进展，你认为我们距离实现高端芯片自主化生产
的目标还有多远呢？欢迎在下方留言评论，我是柏柏说科技，资深半导体爱好者。关注
我，带你了解更多资讯，学习更多知识。 |
H********g
发帖数: 43926 | 2 不懂了 光洁度不超过50皮米？ 半个氢原子都不让放？
pgv_
EUV
【在 H********g 的大作中提到】
: 【 以下文字转载自 Military 讨论区 】
: 发信人: foofy (不才), 信区: Military
: 标 题: 0.1nm！央视：国内首台光镜镀膜设备投用，光刻机的最后一块拼图
: 发信站: BBS 未名空间站 (Tue Jul 6 12:45:15 2021, 美东)
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: 0.1nm！央视：国内首台光镜镀膜设备投用，光刻机的最后一块拼图
: 柏柏说科技i2021-07-05 15:26:34
: 根据零部件效力程度划分，EUV光刻机共分三个核心部件：双工件台、EUV光源、EUV光
: 学镜头。目前我国已经成功攻坚适用于EUV光刻机设备的EUV光源、双工件台系统。EUV
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B********u
发帖数: 1 | 3 感觉是delta的意思
【在 H********g 的大作中提到】
: 不懂了 光洁度不超过50皮米？ 半个氢原子都不让放？
:
: pgv_
: EUV
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H********g
发帖数: 43926 | 4 laue透镜跟euv又是啥关系？不是给x光用的衍射部件吗？
——
Bear
furoci (伊千枝)
9 24.* 7/6/21, 6:21:49 PM (3')
都是一帮外行在瞎鸡巴
Laue透镜，主要用于高能物理成像，
比如，对宇宙中高能gamma射线星体成像，
高能X射线星体成像，。。。。，
基本上都是nuclear instrument的研究领域，
跟光刻屁关系都没有。
laue透镜生产完成后，
当然得用synchrotron radiation校验，
你妈不然用啥校验？
难道用你妈的EUV校验？
EUV根本达不到需要的能级。 |
H********g
发帖数: 43926 | 5 哦 明白了 这个镀膜装置可以达到原子级别精度 因此可以拿来造laue透镜
当然也可以给光学镜片镀膜
——————
Bear
furoci (伊千枝)
10 24.* 7/6/21, 6:28:51 PM (2'41")
Laue透镜，用laue diffraction生产，
透镜径向改变镀层厚度，人为造成晶格间距渐变，
这样laue diffraction的角度从中心开始由小慢慢增大，
从而聚焦KeV到MeV这个档次的高能射线
这个能量比光刻用的高了上百万倍，你妈根本不能用于光刻，
目前主要用于高能天文成像 |
z***i
发帖数: 8285 | 6 synchrotron radiation跟着跑野叔去照过一礼拜
跑野叔有次问一起去出差吧？那必须跟啊，伊的认路能力到哪里也不会丢
结果伊手拙，准备的样品乱七八糟的，照了也没出毛结果
那个实验室最令人震惊的是有豪华室内吸烟室
【在 H********g 的大作中提到】
: laue透镜跟euv又是啥关系？不是给x光用的衍射部件吗？
: ——
: Bear
: furoci (伊千枝)
: 9 24.* 7/6/21, 6:21:49 PM (3')
: 都是一帮外行在瞎鸡巴
: Laue透镜，主要用于高能物理成像，
: 比如，对宇宙中高能gamma射线星体成像，
: 高能X射线星体成像，。。。。，
: 基本上都是nuclear instrument的研究领域，
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