p******s
发帖数: 137 | 1 【 以下文字转载自 Physics 讨论区,原文如下 】
发信人: inflation (zigzag), 信区: Physics
标 题: [转载] 贝尔实验室研究人员篡改实验结果遭查处
发信站: The unknown SPACE (Sun Jul 7 13:18:43 2002), 转信
【 以下文字转载自 WorldNews 讨论区 】
【 原文由 DuduWolf 所发表 】
《科学》杂志发表社论说，对贝尔实验室研究人员不正当科研行为
展开的调查获得进展，确认部分实验数据已被篡改。
自2000年以来，美国贝尔实验室简·亨德里克·舍恩等人相继在学术
期刊上发表一系列重要实验成果。但一些科技界人士对这些成果存有疑虑
，提出指控。贝尔实验室十分重视这一问题，组织了一个以斯坦福大学比
斯利教授为首的5人外部专家小组，调查其属下研究人员在科学研究中是
否有不正当行为。5人外部调查小组对他们在一些主要期刊上发表的论文
进行了调查，发现了一些很难解释的数据，并谨慎地推测，他们所进行的
实验结果已被篡改，或者说数据被篡改。
《科学》杂志的社论说：“由于不正当科研行为再次引起人们的关注
， | w********h
发帖数: 12367 | 2 查处不查处似乎还没有吧，
前几天看Physics Today上面没有讲他们篡改了数据，
只是正在调查，尚未明朗... | d*****s
发帖数: 313 | 3 but IF it is true that they duplicated data, I dont want their scientific
careers to be over. They are such a talented group that they are really
capable of making difference. I may be dumb saying this after all the
"proofs" state they cheated, but really, if they dont have great ideas,
no way can they even cheat.
BTW, I sort of have strong confidence that they did not cheat. Science means
purity. We got to give them trust before starting to doubt.
【在 w********h 的大作中提到】
: 查处不查处似乎还没有吧，
: 前几天看Physics Today上面没有讲他们篡改了数据，
: 只是正在调查，尚未明朗...
| u*****s
发帖数: 23 | 4 七月五号出版的科学上有科学权威作者写的对整个事件的详细调查.感兴趣的可以认真读
一读. 关键不在于是否篡改数据, 而是Schon 在sputtinf氧化铝在single crystal
pentacene上时,由于所用的设备过于陈旧, 真空度只能达到10(-6)torr, 这样不可能避免
空气和Al蒸汽扩散到晶体中, 使之具有他们所测出的那些非常优秀的结果, 因为这本来就
是Al或氧化铝等半导体所表现出来的特性. 别的科学家用更先进的设备做同样的实验, 真
空度达到10(-12)torr, 就不能重复他们的研究结果了. Harvard 的Charles Lieber (去
年发了8篇Science的超级大牛)在接受<科学>的记者采访时就说"我不会相信这个小组的任
何结果."
【在 w********h 的大作中提到】
: 查处不查处似乎还没有吧，
: 前几天看Physics Today上面没有讲他们篡改了数据，
: 只是正在调查，尚未明朗...
| w********h
发帖数: 12367 | 5 我看Physics Today上面讲基本上所有晶体都是Kloc合成的。
氧化铝层是Schon做的。
读
免
就
真
去
任
【在 u*****s 的大作中提到】
: 七月五号出版的科学上有科学权威作者写的对整个事件的详细调查.感兴趣的可以认真读
: 一读. 关键不在于是否篡改数据, 而是Schon 在sputtinf氧化铝在single crystal
: pentacene上时,由于所用的设备过于陈旧, 真空度只能达到10(-6)torr, 这样不可能避免
: 空气和Al蒸汽扩散到晶体中, 使之具有他们所测出的那些非常优秀的结果, 因为这本来就
: 是Al或氧化铝等半导体所表现出来的特性. 别的科学家用更先进的设备做同样的实验, 真
: 空度达到10(-12)torr, 就不能重复他们的研究结果了. Harvard 的Charles Lieber (去
: 年发了8篇Science的超级大牛)在接受<科学>的记者采访时就说"我不会相信这个小组的任
: 何结果."
| u*****s
发帖数: 23 | 6 you are right. Kloc is a chemist, and he is not so familiar to semichonductor
physics. Schon produced all the Aluninium oxide layers by sputting with the
machine in Kostanz University in German. And the machine is out of date, very
old, can not control the pressure to 10(-12). Now Kloc uses the new equipment
in Bell lab, and he also can not get what he wanted AlxOy layer for about half
an year. Hehe, this is really a scandal.
真
避
来
,
(
的
【在 w********h 的大作中提到】
: 我看Physics Today上面讲基本上所有晶体都是Kloc合成的。
: 氧化铝层是Schon做的。
:
: 读
: 免
: 就
: 真
: 去
: 任
| n*********r
发帖数: 18 | 7 1. Any sputtering on organic molecules
For Aluminum oxide, typically using radio frequency (RF)sputtering, the self
bias is about a couple of hundred voltages, which means the kinetic energy of
some sputtered ions could reach more than 100 eV. That is enough to kill
molecules. I used RF sputtering to deposit Al on Alq3 months ago. XPS results
clearly showed the molecules are killed at least 2 nm in depth.The device
performance dropped too much. Again, i used Ar plasma treated pentacene with
a 2 |
|
