C****2
发帖数: 2904 | 1 央视传出新消息，0.1nm光镜镀膜设备投用，国产光刻机的最后拼图
https://new.qq.com/omn/20210708/20210708A03VO300.html
“目前由中科院研发的高能同步辐射光源设备，截止到6月底已经安装了超过70%的进度
，与之相匹配的相应设备，预计在2022年就能够全部搭建完成”
最近完成了。
但这只是个部件，距离EUV光刻机商用差了不知道多远。 |
s*x
发帖数: 8041 | |
C****2
发帖数: 2904 | 3 啥都得有个路数，得能做出来，距离商用十万八千里，但连原理这些路数都没有，怎么
实用化？
【在 s*x 的大作中提到】
: 一听是中科院，就不用报太大希望了
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v*******e
发帖数: 11604 | 4 去看了一下，又是“小编”看到两个新闻后，脑补的。
当然镀膜设备对光刻机的反射镜也很重要。 |
C****2
发帖数: 2904 | 5 中国内部已经开始搞EUV光刻机了，现在在搞原型机呢。
内部评估得花个十多年吧，关键是原型机造出来，距离实用仍然相差很远。
现在２８纳米光刻机有了，谁敢用啊？
好容易找到个积塔半导体，说是愿意试用一下，然后慢慢反馈各种问题，等真正能实用，
ASML二代EUV都搞出来了。
【在 v*******e 的大作中提到】
: 去看了一下，又是“小编”看到两个新闻后，脑补的。
: 当然镀膜设备对光刻机的反射镜也很重要。
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d******r
发帖数: 16947 | 6 谢老师笑而不语
【在 v*******e 的大作中提到】
: 去看了一下，又是“小编”看到两个新闻后，脑补的。
: 当然镀膜设备对光刻机的反射镜也很重要。
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t******0
发帖数: 153 | 7 光刻机，二个最重要的难点，一是光源，二是物镜
上面新闻提到的【高能同步福射光源】，不知道参数是多少。期望先达到60W，6kHz的
193nm的光源吧。这也已经是突破了。
物镜方面，ArF干式光刻机物镜已经通过验收，浸没式光刻物镜可能还要点时间 |
