C*********g
发帖数: 918 | 1 佳能研制成功大型光刻机
新型光刻机最大的特点是可以一次曝光刻蚀大至24mm×40mm的CMOS，可以显著提升大型
CMOS制造效率成品率，从而显著降低大型CMOS的制造成本。
一次曝光的成品率比以前分次曝光要高不少, 全副CMOS可以降价了。可能廉价全副就要
来了。 | T****n
发帖数: 6187 | 2 俺等这个
【在 C*********g 的大作中提到】
: 佳能研制成功大型光刻机
: 新型光刻机最大的特点是可以一次曝光刻蚀大至24mm×40mm的CMOS，可以显著提升大型
: CMOS制造效率成品率，从而显著降低大型CMOS的制造成本。
: 一次曝光的成品率比以前分次曝光要高不少, 全副CMOS可以降价了。可能廉价全副就要
: 来了。
| C*********g
发帖数: 918 | 3 这要SONY给点压力。
话说SONY自己不搞光刻机，nikon才是光刻机的大佬。
归根到底还是要nikon多给点压力。 |
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