thermal or electron-beam evaporation 是romm temperature process吗？ - Physics版 - 未名存档

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Physics版 - thermal or electron-beam evaporation 是romm temperature process吗？

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y****y 发帖数: 179	1 弱问一下，多谢 Ti were deposited by using thermal or electron-beam evaporation at ambient temperature with a diameter of 250 um patterned by the shadow mask process 是指的室温吗？
l**n 发帖数: 908	2 钛当然是通过thermal或者e-beam的方法加热蒸发（evaporation），而接收这些蒸发出来的sample/substrate是在室温，没有特别加热或降温——水冷倒是有可能，如果蒸发的膜比较厚的话。特殊情况下，有预热substrate的，也有用液氮冷却的。
y****y 发帖数: 179	3 谢谢啦我印象中也是evaportion的substrate应该是room temperature，现在确认了，多谢【在 l**n 的大作中提到】 : 钛当然是通过thermal或者e-beam的方法加热蒸发（evaporation），而接收这些蒸发出 : 来的sample/substrate是在室温，没有特别加热或降温——水冷倒是有可能，如果蒸发 : 的膜比较厚的话。 : 特殊情况下，有预热substrate的，也有用液氮冷却的。

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