p*****h
发帖数: 1369 | 1 荷兰那边可以要求光刻机先发货了，LOL
: 尼玛，谁能想到这年头口罩手套比光刻机还抢手
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a***e
发帖数: 27968 | 2 别搞笑了
中国的问题，是光刻机对中国禁运，能搞出来才开禁
这么干的结果就是哪个光刻机开发都挣不了钱，哪个企业傻叉开发这个？
对中国，这种东西是卡脖子的事，可是高校和研究院那个给力了？
汽车发动机和离合器，还有坦克用的，情况类似
那个高校研究院给力了 |
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c******7
发帖数: 109 | 3 你怎么知道中芯没有做10nm的光刻机，做过调查吗？
你是搞半导体芯片制造的吗？不懂别在这儿瞎BB的，
你知道193 ArF技术吗？
你听说过immersion技术和double patterning技术吗？
不懂别在这儿乱喷，
让别人笑掉大牙，
按你的说法，在EUV 没有正式商业化之前，做10纳米还得别处新裁用专门的光刻机呀。
我知道乱喷是你的工作，但你这也太没边了，
实在看不下去了。
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s********v
发帖数: 331 | 4 中国反击：不把芯片弄成沙子价格不罢休
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对中兴被扼杀这个事情，大家需要看明白它的本质。这不是讨论什么违规与处罚的问题
，而是美国意图扼杀中华民族发展的根本问题，除非中国同意放弃在航天、汽车、材料
、航空、医药、信息产业等前沿的追赶和发展权利，并且还要把金融、市场和劳力全部
交给美国人，否则美国是不会满意的。至于说法律，美国没经过联合国安理会同意就轰
炸别的主权国家合法吗？没有拿出可靠证据就以“美国认为”或者“很可能”这样的主
观有罪推断对他国进行制裁或动武符合现代法律精神吗？一个自身就没有法律和平等意
识的政府谈论法律都只能是欺压霸权的借口。
正常情况下，因为国际产业链分工原因，中国的确没有必要事事都自己做。对已有的芯
片，你单独再搞一个，没有市场竞争力也无人响应，自然很难存活。但现在不同了，美
国这么一搞，各国的企业家都会在意识到：如果某个芯片或技术对美国有唯一依赖那是
很危险的。所以，这种情况下中国应该顺势而为，打破它这个垄断。
中国人不要去当事后诸葛在那里或哀嚎或反思。对霸权行径需要的是有力的反击，需要
的是釜底抽薪。这不是为了打败谁，而是阻止... 阅读全帖 |
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s***d
发帖数: 15421 | 5 光刻机根本没有禁运 只有euv禁运 但是euv没啥用 无论intc tsmc 都没有euv，multi
patterning加上200nm的光刻机 足够 到10nm以下。
★ 发自iPhone App: ChineseWeb 16
★ 发自iPhone App: ChineseWeb 16 |
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a*******g
发帖数: 3500 | 6 asml主要是光刻机
现在的问题是euv技术托了太久，大家都用浸没光刻 外加多掩模。 多出了好些处理步
骤，都没光刻的事情，只是利好做刻蚀，做掩模，做ead的。
得等euv技术成熟了，asml才会获利最大。 |
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发帖数: 1 | 7 【 以下文字转载自 BetterStock 俱乐部 】
发信人: drugbull (药牛), 信区: BetterStock
标 题: 460,000,000元! 长江存储迎来首台光刻机!
发信站: BBS 未名空间站 (Sat May 19 22:13:54 2018, 美东)
中芯国际花了120,000,000美元从荷兰ASML买来一台EUV极紫外光刻机，未来可用于出产
7nm工艺芯片，而依据最新消息，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，国产SSD固态
硬盘再次获得重大突破。
目前，设备已抵达武汉天河机场，办理完毕相关入境手续后，便会运到长江存储工厂。
据悉，这台光刻机也是来自荷兰ASML(操纵着全球90％的光刻机市场)，193nm沉浸式规
划，可出产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆，售价达7200万美元，约合人民币4.6亿元。
后续，长江存储还会引进更多光刻机。
2016年末，国家存储器基地项目(一期)一号出产和动力厂房在武汉正式开工建造，2017
年9月底提早封顶，2018年4月5日首批价值40000000美元的精密仪器出场安装。
同时，长江存储还在推动64层堆叠... 阅读全帖 |
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t*********e
发帖数: 568 | 8 17年4月，华为董事余承东开车接走了在五洲宾馆参加IT会议的华裔著名科学家张首晟
18年9月张首晟获欧洲物理奖、其团队掌握的量子自旋霍尔效应将带来世界芯片革命
18年12月1日仼正非女儿孟晚舟同张首晟要参加一个阿根延晚宴
18年12月1日孟晚舟在加拿大转机被扣，引渡到美国
12月1日张首晟跳楼自杀
12月3日，当下世界最先进的芯片光刻机制造商荷兰的ASML发生火灾，烧毁了中国商家
订购的价值1.2亿美元EUV光刻机 |
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e***y
发帖数: 4307 | 9 行业地位肯定是高的，光刻机龙头老大啊。不过他们的主要部门不是都在荷兰吗，弯曲
的office不知道什么情况。前景难说，他们一直搞的euv估计做不出来。现在听说要进
军别的领域了，因为光刻机没啥可做了。 |
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l*****o
发帖数: 19653 | 10 ccd现在都至少是几百万像素了吧，肯定超过了diffraction limit，所以感光元件的分
辨率真不是问题。。。而且，ccd像素的大小肯定不是由光刻制约的，光刻现在应该正
从65nm向45nm过渡，即便是135nm node，也远远远远小于现在ccd每个cell的尺寸。。。
至于入射光的角度，但凡是超过半米的景物，基本都算是垂直入射吧，而且，防反射膜
也都是根据垂直入射光的波长来设计的。。。
至于镜头的畸变(aberration?), 肯定是有的，毕竟是spherical lens。。。但就我所
知，所有的照相机都是spherical lens，没人搞抛物线的吧，除非想把照相机当光刻机
使用。。。 |
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s*****e
发帖数: 21415 | 11 光刻机这样的精密光学仪器也就是Nikon/Zeiss这样的（当然还有专门做光刻机的）
呵呵。。 C+生产的叫做复印机～～～ |
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s**********s
发帖数: 7387 | 12 ....zeiss什么时候做过光刻机了...
Canon当然做光刻机，虽然市场份额只有第三，但藐视一下其他人还是没问题的.. |
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a***e
发帖数: 27968 | 13 但是光刻完了，就是照片
没有前面后面那些步，那就是照片，不是集成电路，一点电路功能都没有的
其实就是光刻机，那三家其实也就管曝光这一步，
剩下的，上光刻胶，干燥，显影，定影，都跟三家一点关系没有
一水东京电子的货
这帮家伙就是造$30M一台的大相机，10fps的 |
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C*********g
发帖数: 918 | 15 佳能研制成功大型光刻机
新型光刻机最大的特点是可以一次曝光刻蚀大至24mm×40mm的CMOS，可以显著提升大型
CMOS制造效率成品率，从而显著降低大型CMOS的制造成本。
一次曝光的成品率比以前分次曝光要高不少, 全副CMOS可以降价了。可能廉价全副就要
来了。 |
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C*********g
发帖数: 918 | 16 这要SONY给点压力。
话说SONY自己不搞光刻机，nikon才是光刻机的大佬。
归根到底还是要nikon多给点压力。 |
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j****c
发帖数: 19908 | 17 尼康的光刻机还是139nm的，现在都进入EUV波段了，用13.5nm的
三星现在买ASML的光刻机 |
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w****n
发帖数: 5749 | 18 反正索尼也得买尼康的光刻机。
佳能倒是自己做光刻机，也不见它哪天搞个超大曝光面积的，一次曝光生产645数码中
画幅才牛逼。
★ 发自iPhone App: ChineseWeb 8.2.1 |
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t*******y
发帖数: 21396 | 19 技术水平摆在那儿
ASML的光刻机，镜头机台都是买来的；尼康的光刻机，啥都是自己做的。光论技术，可
以说尼康最牛逼啊 |
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h*****2
发帖数: 2070 | 20 i don't think you understand what 光刻机 is.i know a lot of people ever read
that post about 光刻机...
again, 这跟生产相机镜头有什么关系? |
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s******p
发帖数: 4962 | 21 【 以下文字转载自 Military 讨论区 】
发信人: dafemrenla (dafemrenla), 信区: Military
标 题: 牛，SMEE封装用光刻机将实现商用,
发信站: BBS 未名空间站 (Mon Jul 14 11:49:25 2008)
上海微电子装备有限公司（SMEE）自主研发的SSB500/10A步进投影光刻机将在国内
半导体封装线上实现商用。据悉，即将实现商用的SSB500/10A可满足200mm和300mm硅片
的多种凸块后封装厚胶工艺需求。
SSB500/10A采用高功率汞灯的g、h、i线作为曝光光源，调焦系统可兼容薄胶和厚
胶工艺；对准系统采用基于MVS对准技术，不需在硅片上制作特殊对准标记，增强了设
备对后道工艺的适应性。据了解，SSB500/10A除机械手外全部采用国产零部件，控制系
统也全由SMEE自主研制。
SMEE封装用光刻机将实现商用
已经实现商用的STTP5000-1/10超精密温度控制装置（TCU），也在SMEE的 Semicon
China 2008展台上露面。据介绍，为投影光刻机提供环境温度控制的STTP5000-1/10 |
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a*****y
发帖数: 33185 | 22 手机挤压单反机销量 2014年供货不及2008年一半
2015年02月12日 22:27 上海商报 我有话说(1人参与) 收藏本文
去年供货不及2008年一半 今年预计仍将减少两成
商报记者 叶尧
有资深业内人士向记者指出，智能手机、微单相机及经济大环境不佳是造成单反相
机销售大幅下滑的主要原因。此外，单反相机更新换代的速度过快，基本上一年就更新
一代，市场已经到了饱和状态。
智能手机拍照功能的不断提升，使数码相机的市场环境愈发严峻。最新数据显示，
随着卡片机销量的一落千丈，全球单反相机市场在2012年达到顶峰之后开始走向低迷，
2014年1月到11月的整体销量更是大幅下滑，降幅达23%。
单反相机是否会随着全球相机市场的萎缩而成为明日黄花？
去年开始单反卖不动了
商报记者日前在位于上海鲁班路上的一家摄影器材城看到，店内的器材配件商场、
二手市场和相片打印设备区，虽然商品丰富齐全，各种配件应有尽有，但店里生意却有
些冷清。有些商铺内没有顾客，只有几个营业员在互相聊天或站在门口招揽客人。因为
生意不好，记者每经过一家店铺，都会有营业员招呼记者入内看看。相比稍微有些人气
... 阅读全帖 |
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t******e
发帖数: 2504 | 23 漏了不少，比如上海SMEE90nm的光刻机。
国产设备的主力是北方华创， 有的设备到了14nm在中芯国际厂里验证的级别，有的还
仅仅能用于8英寸晶圆， 有的还没有，进展参差不齐。
还有个中电科的离子注入机还行，到了28nm级别了。
至于中微，主要是生产面板的MOCVD机， 它的刻蚀机是介质刻蚀机， 14nm产品在验证
中，网上传得5nm,只不过是在研究中。刻蚀机分3种：硅刻蚀机，金属刻蚀机，介质刻
蚀机，其它2种是北方华创在做。
其它的产家，都不值一提。
总的来说，现在的国产设备还是星星之火阶段，能否燎原，需要多长时间， 还是未知
，其中，下游国内芯片产家能否壮大，是设备能否发展的最重要因素，显然，如果没有
高水平的国内下游产家， 有高级别的设备也无法验证，验证出来，也没有市场。 |
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t******e
发帖数: 2504 | 24 就是偷给中微公司的。
中微的头，原来就是AMAT（应用材料公司)VP, 北大毕业的， 中微的核心，也基本上是
AMAT的华人。中微的刻蚀机，应该就是从AMAT偷来的，双方正在打知识产权公司， 不
分胜负。
严格地说，这些都是设备制造商， 是为了芯片制造商服务的。 我的理解， 光刻机是
画图的，MOCVD机是在晶体表面上涂层膜， 刻蚀机就按图来在膜上挖槽。
看来中微也在偷MOCVD, 但显然MOCVD机还没有模仿成功，否则中国媒体会大肆宣传的。 |
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A****s
发帖数: 932 | 25 实验室里搞的。英特尔2003年实验室里就搞出15nm 的工艺了. 高K材料半导体业界都搞
了20年了。22nm 的关键不是材料，是光刻。光刻机世界上只有两个公司生产，Nikon
和ASML.
of
★ 发自iPhone App: ChineseWeb 7.7 |
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l*****i
发帖数: 20533 | 27 主要是专利被垄断，没法造。也就是说，任何企业，包括国家企业，就算花了很大力气
仿制出了现在的最高工艺，因为专利被捏在别人手里，自己的产品将无法与别人竞争。
这种前提下，需要的投资额又十分巨大，还需要很强的技术投入，那么这种项目就很难
弄了。
除非说是军方不以商业化为目的，自己组织很强的团队然后砸钱硬憋出来。可是这种要
想跟商业化的全世界市场支撑下的半导体研发来硬碰硬，难度可想而知。 |
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l*****i
发帖数: 20533 | 30 就算现在没有，等你快要搞出来（但是还没有完成），别人就申请了啊。他们的技术是
现成的，随时可以申请。 |
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S****8
发帖数: 401 | 32 总体来说光刻还是最重要，但做3d存储器，etching 的重要性越来越重要， 光刻其实
就那一两家企业让他们赚点钱好了，没必要花大钱去强攻， 把流程上其他中等难度的
攻克了足够国内半导体喝二十年汤 |
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发帖数: 1 | 34 ASML 我一师兄刚去了那里，具体干什么不知道 |
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l*****i
发帖数: 20533 | 35 中国整个商业文化就是压榨自己的员工，打价格战争夺市场。所以任何技术一旦被中国
掌握，利润空间就迅速消失，结果就是剩下还没被中国掌握的技术环节，哪怕再微小，
也成了相对利润率较高的‘关键技术’了。
假如说，中国最后终于打通了芯片制造等全套微电子技术，那结果就只能是相关产品利
润率极低，回头一看，只有外国人掌握的‘品牌’‘设计’等赚钱多，于是又只能感叹
中国产业低级了。而同时中国的设备制造企业还会毫不犹豫的大量向第三世界国家兜售
自己的产品，进一步让微电子技术在全世界范围白菜化，低端化。 |
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T*R
发帖数: 36302 | 36 你这篇雄文通篇最多的两个字是“未来”，其次是“可能”
中国人爱吹牛的毛病打娘胎就有了。 |
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d****o
发帖数: 32610 | 37 不能定性的一棒子打死
德国也是一样的策略，
照样是工业楷模
关键是个度 |
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x****o
发帖数: 29677 | 38
呵呵，欧美人住着大房子，一周工作40小时还带开小差，一年节假日病假带薪假等等，
这么舒适优越的生活你以为是建立在哪的？还不是技术封锁，你每弄个东西买专利买核
心的产品，那个利润都加在最终消费者手上。连代工的毛利都50%，设计的得多少。。。
另外中国设计不差，半导体设计，制造，封测，中国两头大，中间制造环节差 |
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w***o
发帖数: 1806 | 39 这个没什么可以抱怨的。中国掌握后中国就有定价权，即使再低也是市场价格。如果所
有东西都便宜，利润都低，其实应该对老百姓是一样的。如果中国能生产所有产品，到
时候就不存在单方面压榨了。有压榨表示有垄断或有环节中国做不了，员工没有拿到等
量压榨后的产品。
真要抱怨，还是怪偷工减料，谋取暴利的吧 |
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n****4
发帖数: 12553 | 40 老中就是务虚的多，清谈的多。当初搞中蕊国际的时候，也是认为只要中国人一搞，马
上就没有什么欧美台韩什么事了，结果过了这么多年，证明这东西不是服装鞋帽。老中
的人文和习俗对这种大型，先进，精密，商业化的制造，还是阻碍太多。老中有把半导
体造好的功夫，肯定会先把航空发动机造好。 |
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v*******e
发帖数: 11604 | 41 各位有人读了文章没有？“玻璃镜面加工等精度，误差不会超过0.5毫米。”这个肯定
有误。 |
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x****o
发帖数: 29677 | 43
人家从89年代开始，中国从2000年开始，起步就晚了十几年，又有封锁，现在差2-3代
已经不错了 |
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d********8
发帖数: 691 | 44 ft。。。ls胡说八道，内存和flash工艺整体难度上比CPU要低数个量级
这三个在当前的节点不考虑EUV，浸入式光刻都是绕不过去的，光刻机不够好成本就高
呗 |
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m********5
发帖数: 17667 | 45 疑登月的，你们如果拆解过美帝光刻机就知道是真的
同时代的仙童的光刻设备当年可是民用的，完全分立元件实现的自动光罩对准仪设计之
巧妙，当年解析的时候简直震惊了。没详细参观之前是怎么也想不到他们是如何在算力
几乎为0的情况下做到那么精准又鲁棒的目标识别。 |
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t******e
发帖数: 2504 | 46 日本人比较自闭，东西读是最近得到好，公司的零件和协作单位也是日本的。
ASML的光刻机，零件来自全球各地，包括日本和台湾等，日本的佳能光刻，好像就来自
日本本土， 以一国之力和这个世界作战，输得当然要次数多了。 |
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v**e
发帖数: 8422 | 49 尼玛， 你不是说这玩意比光刻机还贵么？
光刻机能用的少说一台一亿美刀， 顶级的10个亿美刀不止，河南还不一定敢卖。
广东有国产的无纺布设备， 国际上也没有禁运。 就是个一般产品，
说过了， 就是产能问题。 |
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y****1
发帖数: 671 | 50 根据中芯国际联席CEO梁孟松博士所示，N+1工艺和14nm相比，性能提升了20%，功耗降
低了57%，逻辑面积缩小了63%，SoC面积减少了55%。
N+1之后还会有N+2，这两种工艺在功耗上表现差不多，区别在于 性能及成本，N+2显然
是面向高性能的，成本也会增加。
至于备受关注的EUV光刻机，梁孟松表示在当前的环境下，N+1、N+2代工艺都不会使用
EUV工艺，等到设备就绪之后，N+2工艺可能会有几层光罩使用EUV，之后的工艺才会大
规模转向EUV光刻工艺。
现在最关键的是中芯国际的7nm何时量产，最新消息称中芯国际的N+1 FinFET工艺已经
有客户导入了（不过没公布客户名单），今年Q4季度小规模生产 |
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