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Military版 - 美国阻扰EUV光刻机出口中国的理由就是
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10纳米的光刻机国产了是假新闻EUV异常难产 不久前
摩尔定律还未死,EUV光刻工艺可用到15年后的1.5nm节点好像刚弄了台高端的光刻机
光刻机领域国内接近世界先进水平,9nm线宽光刻实现突破土鳖的揍性放那摆着
光刻机领域中国接近世界先进水平,9nm线宽光刻实现突破人家设备商都澄清了
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话题: euv话题: 光刻机
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l**********3
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自己掌握超过50%的技术产权
x*********4
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【在 l**********3 的大作中提到】
: 自己掌握超过50%的技术产权
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麻痹原来之前连光刻机也没有就这个量产那个量产了10纳米的光刻机国产了是假新闻
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