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Military版 - 耗费巨资购买EUV光刻机 台积电有何打算?
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原来台积电是河南ASML公司的股东河南ASML光刻机的技术封锁
解禁!ASML的EUV光刻机终于要卖给中国了!称大陆追上台积电要花好几年 张忠谋底气何在[zz]
纳米制程完成验证光刻机领域国内接近世界先进水平,9nm线宽光刻实现突破
中国要成半导体大国难过登天光刻机领域中国接近世界先进水平,9nm线宽光刻实现突破
原来中芯国际的EUV光刻机还在纸面上福建晋华“历史天案”将如何收尾?半导体之路已涉入“深水区”
光刻机除了ASML,就没有其它公司可以生产吗?中国不是不会造芯片,是不会遭光刻机
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话题: euv话题: 积电话题: 工艺话题: tsmc话题: 纳米
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P****R
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据报导,艾司摩尔(ASML)上周公布上季财报亮眼,并宣布已接到新一代极紫外光(
EUV)微影机台六部订单,有分析师推测,台积电可能订走了其中五台,即一口气买下5
.5亿美元的设备。
EUV机台每台价值1.1亿美元。研究半导体设备业者的Summit Redstone Partners分析师
耶尔(Jagadish Iyer)说:“我们相信他们(ASML)处于转折点,除非相信技术已经
成熟,没有业者会同时买下每台1.1亿美元的机台。”他认为是一口气订购五台的客户
是台积电。
半导体顾问公司(SA)半导体分析师梅尔(RobertMaire)估计,ASML今年12部EUV机台
的产能已满载。耶尔认为,今年半导体设备支出可能超过业界预测的350亿美元,他说
,三星电子为夺回台积电的订单,将会设法赶上并争取半导体的生意。
台积电为什么要耗费巨资购买EUV光刻机?
我们都知道半导体工艺越先进越好,用以衡量工艺进步的就是线宽,常说的xx nm工艺
就代表这个,这个数字越小就代表晶体管越小,晶体管密度就越大。现在半导体公司已
经进军10nm工艺,但面临的物理限制越来越高,半导体工艺提升需要全新的设备。EUV
极紫外光刻机就是制程突破10nm及之后的7nm、5nm工艺的关键。因此台积电对EUV那么
捉急。
而在这些工艺上的快读推进,谋求领先,也是台积电那么积极购买EUV的原因之一。
台积电联系CEO刘德音在2016年的某个会议上公布了TSMC的2020路线图,认为EUV光刻工
艺在2020年时能有效降低量产5nm工艺的成本,TSMC计划在5nm节点上应用EUV工艺以提
高密度、简化工艺并降低成本。
目前TSMC公司已经在7nm节点研发上使用了EUV工艺,实现了EUV扫描机、光罩及印刷的
工艺集成。TSMC表示目前他们有4台ASML公司的NX:3400光刻机在运行,2017年Q1季度还
会再购买2台。
之前有报道称三星也购买了ASML公司的量产型EUV光刻机,目的是在2017年加速7nm工艺
量产。
EUV是新一代半导体工艺突破的关键,但进展一直比较缓慢,至少比三星、TSMC两家的
嘴炮慢得多——早前TSMC宣称在2016年的10nm节点就能用上EUV工艺,之后又说7nm节点
量产EUV工艺,但现实情况并没有这么乐观,现在他们的说法也是2020年的5nm节点,跟
Intel的预计差不多了。
TSMC表示他们的10nm工艺已经有三个客户完成流片,虽然没公布客户名称,但用得起
10nm工艺的芯片也就是苹果A10、联发科X30(被海思、展讯刺激的联发科在X30上爆发
了)以及海思新一代麒麟处理器,流片的估计就是这三家了。
TSMC表示今年底之前还会有更多客户的10nm芯片流片,该工艺将在2017年Q1季度量产。
至于7nm,TSMC表示他们已经提前256Mb SRAM芯片,进展顺利,CEO表示相信TSMC的7nm
工艺在PPA密度、功耗及性能方面要比对手更出色,已经有高性能客户预计在2017年上
半年流片,正式量产则是在2018年。
至于5nm,台积电表示,在制程基地尘埃落定后,最快今年就可动工,目标则是要在
2020年量产,届时将有望甩开三星与英特尔,独步全球。
台积电南科厂目前主力制程为16纳米,后续10纳米及7纳米则是放在中科,而接续的5纳
米制程将会由南科厂来担纲。台积电厂务处处长庄子寿表示,5 纳米制程为未来2~3 年
的计画,目前仍在发展中。而关于厂区部分,则是规划占地约40 公顷,投资金额上千
亿元,待台积电董事会通过后就会启动,最快今年将动工。
据悉,南科环差案能顺利通过的原因,是因为南科承诺未来将采用每日3.25吨的再生水
取代农业用水,包括永康再生水的1.25万吨及日后台积电将投资20亿元自设再生水厂,
供应2万吨再生水,供5纳米制程使用。
环评委员李育明表示,南科环差案自2014年底,历经2年审查。因台积电更新半导体制
程,需增加用水用电量,因此依规定须办理环差变更,如今环保署顺利通过南科环差案
,也让台积电在未来的竞争布局上再下一城,又往前推进一步。
台积电自去年底陆续斩获好消息,在晶圆代工方面仍稳居龙头宝座,市占率逼近六成,
大幅领先格罗方德的11%与联电的9%。而半导体研究机构ICinsights更看好晶圆代工将
在2021年达到721亿美元的市场,对身为该领域龙头的台积电来说将是一大利多。
此外,台积电、三星与英特尔之间先进制程的战局依旧如火如荼的展开,三方比拼毫不
手软。从近期“战况”来看,在10纳米制程上,台积电已赶在去年Q4进入量产阶段,最
快今年Q1就可挹注营收。而三星进度则是与之不相上下,至于去年静悄悄的英特尔则是
在今年CES展前记者会上才推出10纳米产品。但是业界仍看好台积电在良率稳定度上的
优势,且在产能上亦具有经济规模优势,因此台积电仍将在10纳米市场上技高一筹。
至于7纳米布局,台积电则是狠狠甩开三星,据传将在今年Q1正式展开试产。据了解,
目前台积电7纳米试投片情况十分顺利,包括赛灵思(Xilinx)、英伟达(NVIDIA)均
将采用外,高通(Qualcomm)也传出将在7纳米重回台积电投片。
而业界则预估,台积电7纳米将在2018年正式进入量产,届时将正式超越英特尔(Intel
)7纳米量产时程超过两年。早前英特尔因征才启示意外透露该公司可能于2021年才进
行7纳米量产,也就是说,若台积电5纳米顺利在2020年量产,这将使台积电一举超越劲
敌英特尔,并将其推上在先进芯片科技上的领导地位。
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荷兰人一个月只能造一部,大陆成都1天可以吹1部出来
P****R
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射墙射光了。
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台积电什么时候可以推出10nm的芯片?
苹果A10芯片可能用了10nm技术。
P****R
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台积电要加快开发微细半导体 甩开三星
全球最大半导体代工企业台湾积体电路制造(简称台积电、TSMC)将加快尖端技术
的开发。该公司计划投入300~400人的研发团队全面启动将电路线宽缩小至3纳米(纳
米为10亿分之1米)的微细产品开发。预计到2020年以后启动量产。该公司显示出在技
术开发速度上要将韩国三星电子等竞争对手甩在身后的姿态。
台积电共同执行官(CEO)刘德音近期出席在台湾北部新竹市举行的行业团体会议
时透露了上述消息。台积电的主要业务是生产智能手机用大规模集成电路(LSI),包
括美国苹果和中国大陆企业等在内,拥有广泛客户。刘德音表示技术是台积电的生命线
,暗示出不断领跑全球开发竞争的决心。
在半导体领域,为了提高处理能力以及削减成本需要将电路线宽微细化,围绕这一
目标各企业一直展开激烈竞争。
台积电在面向苹果手机“iPhone”供货方面具有优势,但在“iPhone 6s”上被加
速微细化的三星夺走了份额。在苹果9月上市的最新款“iPhone 7”上,台积电的16纳
米级产品被认为夺得了独家供货权。
据估计,台积电将在2016年底至2017年上半年启动10纳米级产品量产,2018年上半
年启动7纳米级产品量产。很多观点认为,5纳米产品的问世要等到2020年前后。
台积电在推进电路线宽微细化的同时,还将加快开发新产品。这些产品将支持以发
达国家为中心实现增长的IT新技术。刘德音列举了汽车、物联网(IoT)和人工智能(
AI)等领域,表示这些领域将成为今后增长的原动力。
随着中国大陆智能手机厂商等的崛起,台湾大型半导体设计和开发企业联发科技60
%的销售额开始依赖中国大陆。刘德音也显示出关注大陆市场的姿态,但强调称有必要
维持与发达国家客户的关系。
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中国不是不会造芯片,是不会遭光刻机纳米制程完成验证
10纳米的光刻机国产了!中国要成半导体大国难过登天
除《踢馆》外,讲武堂所刊登文章均为授权转载原来中芯国际的EUV光刻机还在纸面上
ASML的人和我说的光刻机除了ASML,就没有其它公司可以生产吗?
台積電準備生產7奈米晶片,台湾网友称中国你慢慢赶吧最近投资人看芯片的创业项目都看不过来了
台积电(zz): 及其清楚明了10纳米的光刻机国产了是假新闻
原来台积电是河南ASML公司的股东河南ASML光刻机的技术封锁
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