S******n
发帖数: 5022 | 1 正常。
观音的光刻技术在往细微处发展不大，没能降低纳米的数值。
但是观音的光刻技术一次性能光刻成功的面积确实一直在增大。
以前观音一次曝光能刻录APC-H的面积（FF则要两次曝光）。所以那个时代，观音有APS
-H的CMOS。
现在观音一次曝光就能刻录45mm*45mm的面积了，一次曝光，无论大小成本都差不多，
所以不会再有APS-H了。有此绝技，645的感光面积的CMOS，最多2次曝光就成型。所以
观音搞645试试水，也不是没可能的。毕竟观音能大幅度降低感光器件的成本。 |
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h******c
发帖数: 2111 | 2 乃康的光刻机还卖得出去？
: 好几年前专家们就批尼康两三年内要倒闭，不过现在看来还至少能撑个三五年。
: 好玩的是尼康家的光刻机业务发展不错，光刻是半导体（包括 sensor)生产的重
要步骤。
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s*****e
发帖数: 21415 | 3 呵呵，现在看起来真好玩：
……
为了减小光刻芯片时产生的图形变形与偏差，实际生产中通常采用掩膜版图形补偿机制
，也就是说，通过改变掩膜版上图形的形状或者图形透光的相位来弥补光刻到硅片上时
产生的图形变形，使得硅片上光刻得到的图形与预期的图形基本符合。我们将这种补偿
机制称之为刻线提高技术 (RET：reticule enhancement technology)。刻线提高技术
一般来说主要包括光学临近矫正(OPC：optical proximity correction)、相位转换掩
膜版 (PSM：phase-shift mask) 和辅助图形与伪图形（assist and dummy features）
。这些技术已经被单独或综合地应用于实际生产，许多公司也相继开发了处理软件，取
得了良好的效果。在深亚微米技术阶段，这种矫正处理已经成为芯片设计过程必不可少
的步骤。
…… |
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h******y
发帖数: 1374 | 4 【 以下文字转载自 Military 讨论区 】
发信人: philchenko (philchenko), 信区: Military
标 题: 广东省拟引进第三批国际科研领军人才
发信站: BBS 未名空间站 (Fri Jun 8 15:04:12 2012, 美东)
按照《广东省引进创新科研团队评审暂行办法》、《广东省引进领军人才评审暂行办法
》的相关规定，经公开申报、合规性审查、征求省直部门意见、第一轮同行专业评审、
第二轮现场答辩评审、实地考察、报批等程序，第三批拟引进的创新科研团队和领军人
才有关情况公示如下：
一、拟入选的创新科研团队
1固态存储系统及核心控制芯片海外创新团队
带头人邹粤林，固态存储系统技术专家，美国华美半导体学会理事，拥有超过18年
闪存芯片等IC研发经验。团队核心成员均为国际顶尖的存储系统技术专家，包括2名国
外知名高校终身教授。团队致力于固态硬盘及其核心控制芯片关键技术研发及产业化，
曾与业界著名公司共同开展多项芯片研究，创下多项业界第一，其中主持开发的闪存芯
片10年前已售出上亿件。团队在固态硬盘及控制器开发方面拥有自主知识产权核心授权
发明专利... 阅读全帖 |
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w****2
发帖数: 12072 | 5 （七）中国的崛起势不可挡
１. 中国人要有自信，不卑不亢
这篇文章的甲部贴出后，【天下纵横谈】一位大陆市民善意地为 YST打预防针，他希望
我不要像论述东南亚战略时把中国大陆的实力过分高估，引起大陆一些网友的讥讽。
YST 认为大陆的网友各色各样的言论都有，我们本著自己的资料、分析和主观判断写文
章，只要言之有物就行，是否得到认同不是重点，也不能是重点，否则就成了乡愿。取
悅所有的读者既不可能也没有必要。
大陆很多网友的想法是不平衡的，他们在台湾和日本的议题上喊打、喊杀、喊核平对方
；但是在碰到与美国有关的议题上他们就变得非常退缩，丧失自信，连分析能力都打了
折扣。
中国过去在不该输出革命的时候为了意识形态而输出革命，所以惨遭失败。
中国现在为了本身的利益应该输出革命的时候却畏缩不前，导致坐失良机。
「输出革命」是国际政治斗争经常使用的手段，美国没有少干。这些年来东欧那么多「
颜色革命」就是美国输出革命的成果。
中国人要有自信，要能够不卑不亢才能把握机遇、做出正确的决定。
前几天，我看到一篇报导，是大陆的【理财一周报】访问经济学家谢国忠。谢国忠批评
中国在全球金融危机中的态度过分低调，... 阅读全帖 |
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s*******y
发帖数: 988 | 6 半导体业是高度成熟的产业,以后的竞争者只会越来越少,大陆想击败台积电不怎么现实
,不过大陆走的本来也是和台湾不同的路线,追求的是产业的完整性.大陆的中微半导体
已经提供了蚀刻机给台积电,台湾没有一家企业能做到这一点.
我觉得未来中国的半导体业和上下游产业会接近日本.日本无论半导体工艺还是仪器,做的都不如欧美,但是几乎所有的东西都能提供,然后搭配给日本自己的消费类电子产品消化掉产能,自给自足.
举个例子,佳能的光刻机不如ASML,东芝的半导体工艺不如台积电,索尼的产品不如苹果流行.但是佳能提供光刻机给东芝,东芝生产芯片,索尼购买东芝的芯片生产PS3,所有的环节都在日本内部消化,最终出现一件优秀的产品.你难道能说日本不如荷兰美国台湾? |
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t******t
发帖数: 15246 | 7 新华网上海３月２１日电（记者 张建松）“工欲善其事，必先利其器。”半导体产业的发展离不开装备制造业的支撑。由于技术门槛高，长期以来，世界半导体装备制造的高端关键设备被国外几家大公司所垄断，特别是超高精度的刻蚀设备。
在国家重大科技专项的支持下，中微半导体设备有限公司成功研制生产６５纳米到４０纳米的介质刻蚀机，并成功打入国际市场，改变了世界关键刻蚀设备领域的竞争格局，有力提升了我国半导体产业的国际竞争力。
什么是６５纳米到４０纳米的介质刻蚀机？与老百姓的生活有什么关系呢？
中微半导体设备有限公司董事长兼首席执行官尹志尧博士形象地解释说：“如果将第一次工业革命比作‘机械代替人手’的革命，除了宏观材料、能源动力外，人类发明了机床、铣床、刨床等关键设备，打造了一个传统的‘宏观加工’工业；６０年前由美国硅谷开始的第二次工业革命就是‘电脑代替人脑’的革命，微观材料的制造和微观加工是这次革命的核心技术，我们开发的刻蚀设备就如同微观加工的机床、铣床、刨床。”
“和‘宏观加工’不同的是，‘微观加工’是在头发丝的几千分之一的尺度上实现的。一台等离子体刻蚀设备一年要加... 阅读全帖 |
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s*****V
发帖数: 21731 | 8 精度可能是惊人的
使用“双光子光刻”（two-photon lithography）技术打印三维物体，可以获得令人难
以置信的超微细节。利用这项技术可以制作纳米尺度的微小结构。
奥地利维也纳理工大学（TU Vienna）的研究人员现已在这项技术上取得重大突破，可
以加快这种印刷技术。研究人员开发的新型纳米精度三维打印机，采用双光子光刻技术
，打印速度由原先的每秒1 mm大幅提高到每秒5 m。该技术将开辟医药等全新的应用领
域。 |
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A****s
发帖数: 932 | 9 实验室里搞的。英特尔2003年实验室里就搞出15nm 的工艺了. 高K材料半导体业界都搞
了20年了。22nm 的关键不是材料，是光刻。光刻机世界上只有两个公司生产，Nikon
和ASML.
of
★ 发自iPhone App: ChineseWeb 7.7 |
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s*****V
发帖数: 21731 | 10 2月19日的《自然》杂志，以《中国藏匿的晶体》为题，用3页篇幅对中科院理化技术研
究所陈创天院士率领的团队，发现并生长出一种最新的光学晶体———氟代硼铍酸钾（
KBBF）晶体进行了详细报道，并称“中国实验室成为这种具有重大科学价值的晶体的唯
一来源，它表明中国在材料科学领域实力日益增强”。
KBBF晶体是目前唯一可直接倍频产生深紫外激光的非线性光学晶体，是在非线性光
学晶体研究领域中，继硼酸钡、三硼酸锂晶体后的第三个“中国产”非线性光学晶体。
《自然》杂志称：“其他国家在晶体生长方面的研究，目前看来还无法缩小与中国的差
距。”
陈创天团队经过18年研究，采用“局域自发成核生长技术”，突破大尺寸KBBF晶体
生长的技术瓶颈，生长出迄今为止尺寸最大的透明块状KBBF单晶，并结合他们发明的非
线性光学晶体的棱镜耦合专利技术，成功制作出KBBF晶体厚度为2.3毫米的光接触棱镜
耦合器件，保证了产生深紫外激光的实用性和精密化性能。这项技术为193纳米光刻技
术系统中所需要的全固态光源奠定了基础。目前，该技术已获中国、美国和日本发明专
利授权。
KBBF晶体能够缩短激光的波长，装备该晶体的各种激光... 阅读全帖 |
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R****a
发帖数: 6858 | 11 （七）重装上阵 C.全新领域
来源: 唵啊吽 于 2013-09-19 04:09:26 [档案] [博客] [旧帖] [给我悄悄话] 本文已
被阅读：163次 字体：调大/调小/重置 | 加入书签 | 打印 | 所有跟帖 | 加跟贴 |
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在各个产业领域，中国除了亦步亦趋的补课式追赶，比如重型机械、光刻机、CPU等等
，此外还有超越式追赶，即直接最先进的技术方向看齐，相当于一边补课一边预习，于
是可以用最短的时间完成超越，激光3D打印就是最好的例子，在其他领域类似的例子也
很多，比如石墨烯产业。
石墨烯是近年来非常热门的一种新材料，曾经被认为是不可能存在的，直到2004才被英
国曼彻斯特大学的两位科学家制备出来，二者获得了2010年诺贝尔物理学奖。此后，人
们发现石墨烯具有很多优异和独特的性质，其潜在用途十分广泛。于是，在短短的几年
时间里，围绕石墨烯，全世界掀起了科学研究和产业应用的热潮。
石墨烯材料可分为两类，一类是由单层或多层石墨烯构成的薄膜，另一类是由多层石墨
烯(10层以下)构成的微片。薄膜可用于制造集成电路，还可以用于制造触摸屏和其他需
要透明导电材料... 阅读全帖 |
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J*********n
发帖数: 6974 | 12 光刻机最牛的是荷兰的，其次是日本。
没怎么听说德国、美国造光刻机。 |
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c*******o
发帖数: 1722 | 13 当年拿到intel光刻的工作，被human resources搞掉了。
我知道有去IBM做光刻的。 |
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c*******o
发帖数: 1722 | 14 当年拿到intel光刻的工作，被human resources搞掉了。
我知道有去IBM做光刻的。 |
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f***y
发帖数: 4447 | 15 主要是高科技制裁，不能输入最先进的光刻机。
土共应该花大钱搞光刻机，再搞台积电。 |
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J*********n
发帖数: 6974 | 16 荷兰最牛的是光刻机，生产intel CPU的那种光刻机。。。 |
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k**o
发帖数: 15334 | 17 光刻机，全世界半导体业大都是用荷兰ASML光刻机。绝对#1霸主地位。 |
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m********5
发帖数: 17667 | 18 这楼是文科僧冒充内行。以前天天拆包装做dicing, packaging的飘过
晶圆要经过切割成die,才能封装到package里面。文科僧以为晶圆光刻之后就不用切割
那是太搞笑。
大陆以前主要是进口加工好的晶圆做packaging的说法并没错。
现在也有大陆公司就把die往PCB上封，都是进口晶圆
################文科僧冒充内行###################
“即使低端的国产率较高的芯片，其中很大一部分还是买的国外的晶园，然后自己回来
切割，装个外壳测试一下就是成品了。相当于买个进口的产品，自己包装一下就MADE
IN CHINA了。“
外行外行，还回来自己切割？难道说晶圆光刻程序过后还要真空包装跨洋运到中国再打
开包装进行切割？那玩意你当是电匣子？把壳拆开再装回去？芯片生产最大的忌讳就是
粉尘。包装，拆包装时会产生多少粉尘颗粒？你切割，再清洗，在封装那成本要高
YIELD要低！还不如说打磨更靠普，瞎话都不会编。
################文科僧冒充内行################### |
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x********u
发帖数: 1061 | 19 你说intel的光刻机是哪家生产的？
半导体设备基础？你说吧，中国哪个半导体设备基础为零？单晶炉？光刻机？
艺。 |
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L********9
发帖数: 157 | 21 看了一眼。90nm技术
[在 liangshan (梁山) 的大作中提到：]
：上海微电子装备有限公司现已成为世界上继荷兰和日本3家光刻机公司之后，第4家掌
握高端光刻机系统设计与系统集成测试技术的公司。
：
：........... |
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l*b
发帖数: 4369 | 22 万分之一，那就是4亿人刀
asml的新款euv光刻机，单价1.5亿欧元。
4亿人刀连半台光刻机也买不了，甭提研发了，进去连个响都听不到。
要说研发个小型干式光刻机，用于小规模芯片的 non critical layer，4亿人刀作为种
子基金还是可以的。 |
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f***y
发帖数: 4447 | 23 光刻机是禁运名单里。花多少钱都要搞出来。
不过听说国产45纳米光刻机就快量产了。 |
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l*b
发帖数: 4369 | 24 原子弹不好比，导弹就不一定比光刻机复杂了
1.5亿欧一台的光刻机，应该比大部分导弹复杂 |
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l*b
发帖数: 4369 | 25 这个价钱是比较低的，EUV光刻机的毛利率明显低于主流的Twinscan。而且像三星intel
这样的厂子也不是人傻钱多的地方
目前ASML每年研发投入10亿欧左右，这是建立在30年积累的基础上。
如果中国想搞世界领先的光刻机，4亿人民币研发就是连个响都听不见。 |
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l*****i
发帖数: 20533 | 26 EUV作为新技术，追起来容易的多，因为工艺经验积累上差距相对不大，大家都是从头
开始。而且这技术的核心也就是光源和光刻㬵之类根本与台湾没什么关系，都在
设备／材料供应商手里。相比之下，传统的多重光刻工艺倒是与流程控制之类关系更大
，需要深厚经验积累才能有良率。这种情况有些类似于电子管转晶体管。希望国人能抓
住这机会。 |
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y*d
发帖数: 2226 | 27 美光就两大产品，flash和dram
flash技术现在最牛的三丧。去年夏天三丧的3d nand就量产了，美光乐观的估计也要等
到今年年底。三丧可以把工厂修在西安，说明3d nand需要的设备材料都不受禁运。三
丧的牛逼工艺如果中国想要，派几个探子去三丧厂里看看就行了。
dram拼的是光刻的线宽，这一块美光自己也没有啥独门技术。他们的生产设备全是从别
家买的，有些技术是通过和intel合作得到的。关键是生产dram需要的光刻设备是禁运
的，TG买了美光也不能把美光生产线弄回中国。
所以，我不觉的中国真能从美光身上榨出什么油水 |
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j***h
发帖数: 3205 | 28 芯片产业未来会被中国垄断，因为我鳖已经突破了光刻机技术，别说因特尔，台积电，
联发科，海力士这种生产芯片的企业，就是AMSL，Nikon这种生产光刻机的企业都要去
吃翔。 |
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a***e
发帖数: 27968 | 29 半导体绝大部分没有微米级的机械精度
例外可能就是光刻机
光刻机的部件最后要人工微调的 |
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m********5
发帖数: 17667 | 30 大陆现在另外一个致命的问题是无法生产高精度光刻设备和配套仪器。虽然一直禁售，
但大陆仍然搞不出来，因为台湾也没有动力/能力搞。希望台积电登陆以后能逐渐改变
这种现象。
如果大陆能在10年内量产工业级10nm光刻制程设备，那么IC业就真的是夕阳化了。 |
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m********5
发帖数: 17667 | 31 大陆现在另外一个致命的问题是无法生产高精度光刻设备和配套仪器。虽然一直禁售，
但大陆仍然搞不出来，因为台湾也没有动力/能力搞。希望台积电登陆以后能逐渐改变
这种现象。
如果大陆能在10年内量产工业级10nm光刻制程设备，那么IC业就真的是夕阳化了。 |
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v*******e
发帖数: 11604 | 32 转自超大
某高科技公司成功打破某国的KBBF光学晶体的技术封锁，实现国产并大幅度降低价格。
[复制链接]
akula971
灯塔国成功打破某国对全世界的KBBF光学晶体的技术封锁
刚刚看到专门服务于美军激光武器开发的“先进光子晶体公司” （Advanced Photonic
Crystals，APC）的一个新闻稿（http://apcrystal.com/_content/portfolio/KBBF.pdf），他们宣称：
Advanced Photonic Crystals (APC) has developed a U.S. patented hydrothermal
crystal growth process to produce the KBBF crystal here in the United States
, becoming the nation’s only domestic source of this strategic material.
The samples evaluated and tested to date have demonstr... 阅读全帖 |
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h******k
发帖数: 15372 | 33 记我国无机非线性光学晶体的发展历程
材料是人类社会生产力发展程度的重要标志。我们用“旧石器时代”、“新石器时
代”、“铁器时代”等等来划分不同生产力发展阶段的历史时期。人工晶体也能起到划
分时代的作用：水晶及其压电元件的研制成功，将人类带入无线电通讯的新时代;单晶
硅及其集成电路的普及，标志着电子时代的到来;红宝石及其激光器的研制成功，预示
着人类进入光电子时代。
水晶、单晶硅、红宝石都是人工晶体材料，这些人工晶体材料都已经产业化，在全
世界大量生产。当然，这三种材料也只分别是压电材料、半导体材料、激光材料的代表
。随着科技的不断发展，各领域的新材料不断涌现。例如激光材料，继首次实现激光输
出的红宝石之后，又出现了激光性能更好的钇铝石榴石、钆镓石榴石、钒酸钇等激光晶
体。但是，尽管新型激光晶体不断被研制出来，所输出的激光波长并没有覆盖从紫外到
红外的整个光谱范围，而是多半集中在1064nm附近，这就大大制约了激光的应用。于是
人们进一步研究、寻找具有改变激光频率特性的材料——非线性光学晶体，利用这类晶
体进行倍频、和频、参量震荡等光学变换来获得从紫外到红外的激光输出。
上世纪七... 阅读全帖 |
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l*****i
发帖数: 20533 | 34 这个是刻蚀机，还差光刻机。有了光刻机，还差光源。有了光源，还差相应的胶。。。
。总之‘夕阳产业’论者不必惊慌。 |
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发帖数: 1 | 35 设计不是问题，制造工艺不行。制造工艺不行的原因是西方光刻机封锁。
土鳖最近搞的光刻机只是解决了有无得问题，只能28nm的工艺。人intel、台积电、三
星都是14nm的工艺了。虽然最近土鳖从三星内部人士哪里得到了14nm的技术资料，但是
离生产还远。 |
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C****2
发帖数: 2904 | 36 我国集成电路核心装备国产化在京获重大进展。记者日前从北京经济技术开发区获悉，
中芯国际北京厂使用国产设备加工的12寸正式产品晶圆加工突破一千万片次，标志着集
成电路国产设备在市场化大生产中得到充分验证，国产设备技术和市场竞争力迈上了一
个新台阶。
用发丝千分之一精度“盖楼”
穿上淡粉色防尘衣帽，戴上口罩手套，双脚套上鞋套，再进入风淋室经过2分钟的清洁
空气吹淋后，记者进入了中芯国际二期生产线的洁净室。
“这台分片机，需要机械手臂精准、平稳地将晶片进行分发，并且不能有任何刮伤和微
尘污染。”“这台中速离子植入机，是硅变成电晶体的一道重要工艺。”“这台介质蚀
刻机，负责根据设计‘吃掉’硅片上不需要的部分”……在洁净室技术人员的讲解下，
一台台国产装备进入了记者视线。
经过多年的研发以及反复验证、调试，它们如今与代表集成电路最先进制造水平的国外
“同行”们站立在一起，担负起芯片制造的一项项关键工序。
在中芯国际工作多年的老人儿都清晰记得，十多年前中芯国际在京投产时，大到生产线
设备，小到螺母、螺丝钉，都是进口的。
国产设备进芯片生产线，为何这么难？“好比要在晶片上盖四十多层高楼，不同的是... 阅读全帖 |
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j****c
发帖数: 19908 | 37 EUV光刻机禁运而已，193纳米的浸入式光刻机不禁运，现在14nm制程还是用的193nm光
刻机 |
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f***y
发帖数: 4447 | 38 中国微电子所在FinFET工艺上的突破有何意义？
雷锋网(公众号：雷锋网)按：SOI技术作为一种全介质隔离技术，可以用来替代硅衬底
。为何FinFET会成为主流，即便是掌握了22nm FD-SOI工艺的格罗方德还是购买了三星
的14nm FinFET技术授权呢？本文将会解析：新型FinFET逻辑器件工艺突破到底有什么
影响？
最近，中国微电子所集成电路先导工艺研发中心在下一代新型FinFET逻辑器件工艺研究
上取得重要进展。微电子所殷华湘研究员的课题组，利用低温低阻NiPt硅化物在新型
FOI FinFET上实现了全金属化源漏（MSD），能显著降低源漏寄生电阻，从而将N/PMOS
器件性能提高大约30倍，使得驱动性能达到了国际先进水平。
基于本研究成果的论文被2016年IEEE国际电子器件大会（IEDM）接收，并在IEDM的关键
分会场之一——硅基先导CMOS 工艺和制造技术（PMT）上，由张青竹做了学术报告。
那么，这个新型FinFET逻辑器件工艺是干啥用的呢?通俗的说就是下一用来制造CPU等逻
辑器件的工艺，举例来说，现在14/16nm芯片大多采用FinFET工艺，而这个新型Fin... 阅读全帖 |
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l*****i
发帖数: 20533 | 40 主要是专利被垄断，没法造。也就是说，任何企业，包括国家企业，就算花了很大力气
仿制出了现在的最高工艺，因为专利被捏在别人手里，自己的产品将无法与别人竞争。
这种前提下，需要的投资额又十分巨大，还需要很强的技术投入，那么这种项目就很难
弄了。
除非说是军方不以商业化为目的，自己组织很强的团队然后砸钱硬憋出来。可是这种要
想跟商业化的全世界市场支撑下的半导体研发来硬碰硬，难度可想而知。 |
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l*****i
发帖数: 20533 | 43 就算现在没有，等你快要搞出来（但是还没有完成），别人就申请了啊。他们的技术是
现成的，随时可以申请。 |
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f***a
发帖数: 68 | 45 cd是日本（sony）和荷兰（飞利浦）合作发明的，后续的dvd，bluray都是cd技术的衍生
现在cd看起来非常便宜，但其实技术很牛，是非常精密的机械电子设备，技术在某种程
度上和半导体光刻机同源。所以不奇怪现在光刻机最牛的也是日本和荷兰。 |
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