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Military版 - 明年初中芯国际将接收第一台ASML最先进的光刻机
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原来中芯国际的EUV光刻机还在纸面上我国28纳米光刻机研制成功
中国不是不会造芯片,是不会遭光刻机耗费巨资购买EUV光刻机 台积电有何打算?
Re: 中国半导体的困境!这篇讲的最全!10纳米的光刻机国产了是假新闻
中芯国际7nm技术已经突破了?摩尔定律还未死,EUV光刻工艺可用到15年后的1.5nm节点
相关话题的讨论汇总
话题: asml话题: 光刻机话题: 中芯话题: 先进话题: 明年初
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b*******t
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1
使中国弯道超车,达到芯片制造领先地位。
目前ASML光刻机中国大陆占比仅有20%,随着中国今年和明年大批芯片企业的建厂,预计
明后几年ASML世界最先进的光刻机80%都将销往大陆,韩台美的占比会逐渐降低。
n**********1
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2
美国海军直接海上干掉
t******e
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3
又来了扯什么鸟光刻机, 说了多少遍,是研发体系组织出了问题, 不是什么机器问题。
那个EUV是做7nm及以下尺寸的,中芯定货是为了以后的开发。 中芯已经在手3年多的
AMSML1980Di型号, 已经够先进的了,理论上做10nm足够,台积电拿它可以做7nm.
要是中芯自己争气,至少现在10nm应该问题不大。
P****R
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4
中芯28nm量产了,但是良率太低。根本无法盈利。
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摩尔定律还未死,EUV光刻工艺可用到15年后的1.5nm节点原来中芯国际的EUV光刻机还在纸面上
光刻机领域国内接近世界先进水平,9nm线宽光刻实现突破中国不是不会造芯片,是不会遭光刻机
光刻机领域中国接近世界先进水平,9nm线宽光刻实现突破Re: 中国半导体的困境!这篇讲的最全!
台积电(zz): 及其清楚明了中芯国际7nm技术已经突破了?
尤其是 IC设备制造称大陆追上台积电要花好几年 张忠谋底气何在[zz]
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